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葡京会手机版下载:这对光刻技术的分辨率和制备精度提出了更高的要求

时间:2021/9/17 19:35:26  作者:  来源:  浏览:16  评论:0
内容摘要:在封面文章中报道了一项研究:首次在实验中观察到非线性Talbot自修复效应,即从一个有缺陷的非线性光学结构Ability中获得了一个自修复、无缺陷的结构像。非线性塔尔博特效应是一种近场光学非线性衍射现象,在非线性光学显微镜、现代光刻技术、光谱分析和材料表征等高分辨率成像和处理领域更具优势。虽然目前对非线性塔尔博特效应的...

在封面文章中报道了一项研究:首次在实验中观察到非线性Talbot自修复效应,即从一个有缺陷的非线性光学结构Ability中获得了一个自修复、无缺陷的结构像。

非线性塔尔博特效应是一种近场光学非线性衍射现象,在非线性光学显微镜、现代光刻技术、光谱分析和材料表征等高分辨率成像和处理领域更具优势。虽然目前对非线性塔尔博特效应的研究已经取得了一些成果,但对其基本性质和实际应用的研究还不够充分。

宁波大学盛彦教授与澳大利亚国立大学合作,利用强聚焦近红外飞秒激光脉冲实现了铌酸锂晶体自发极化的周期性反转,即全光学制备铌酸锂非线性光子晶体。近场光学非线性衍射实验表明,第一个非线性塔尔博特平面的二次谐波完美地再现了周期结构中缺失的晶格点。

在这项工作中观察到的非线性塔尔伯特自愈效应为容错光刻和光学印刷开辟了新的可能性。在光电子工业中,集成电路元件的尺寸不断减小,这对光刻技术的分辨率和制备精度提出了更高的要求。周期掩模上的任何划痕或缺陷都会限制光刻形貌的分辨率和精度。幸运的是,使用非线性Talbot自愈技术可以克服这个问题。将该技术与极紫外光光源相结合是开发高分辨率容错光刻技术的有效途径。


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